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Updated: May 5, 2026

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Published on: February 12, 2017

石版画的演变:从分辨率缩放到制造限制

Heejoon Chae¹, Hyunje Park², Dae Joon Kang¹

¹Department of Physics, Sungkyunkwan University, 2066, Seobu-ro, Jangan-gu, Suwon-si 16419, Gyeonggi-do, Republic of Korea.

|February 27, 2026

概括

本综述为评估基于产量和缺陷等制造指标的光刻技术提供了一个框架. 它将创新与系统层面的约束联系起来,以提供纳米石刻技术的实际指导.

科学领域:

材料科学材料科学材料科学
工程工程师工程师工程师
物理物理学物理

背景情况:

石版图案面临着越来越高的要求,要求更精细的特征和具有成本效益的制造.
工业采用取决于吞吐量,覆盖,缺陷和成本,以及材料和基板的考虑.

研究的目的:

综述三个时代的石版技术:传统,非传统和当代.
为使用与制造相关的标准解释方法提供决策框架.
将机制层面的创新与制造层面的约束联系起来.

主要方法:

对1990年代前,1990年代和2000年代后的石版技术的审查.
每个技术类的操作原理和工艺路线的总结.
将占主导地位的瓶映射到扩大规模的限制性指标上.

主要成果:

新兴的纳米光刻法方法虽然在物理层面上具有吸引力,但面临着系统层面的限制.
过程窗口,在线控制和制造生态系统的兼容性决定了可行性.
解决方案,吞吐量,缺陷和成本之间的权衡对于规模化至关重要.

结论:

这篇综述为研究人员和工程师在选择纳米石墨选项时提供了实际指导.
了解制造约束对于各种应用的定位技术至关重要.
弥合基础创新和工业可行性之间的差距对于推进纳米石墨技术至关重要.

关键词:

石版的演变石版的演变纳米制造的纳米制造纳米光刻法纳米光刻法纳米模式的设计

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