可解释的机器学习揭示了氧气局部压力和晶性在Mo-Doped In2O3薄膜生长中占主导地位

Oga Hayashi1, Naoomi Yamada1

  • 1Department of Applied Chemistry, Chubu University, 1200 Matsumoto, Kasugai, Aichi 487-8501, Japan.

概括

可解释机器学习 (IML) 揭示了控制Mo-doped In2O3薄膜生长的物理规律. 该框架分离了沉积参数,揭示了材料发现中载体密度和电子流动性的关键因素.