通过表面等离子体共振全息显微镜量化确定内平面光学异构性
Jiwei Zhang1, Wenrui Li1, Jiahao Li1
1Key Laboratory of Light Field Manipulation and Information Acquisition, Ministry of Industry and Information Technology, and Shaanxi Key Laboratory of Optical Information Technology, School of Physical Science and Technology, Northwestern Polytechnical University, Xi'an, China.
Light, science & applications
|March 6, 2026
概括
我们开发了一种新方法来测量薄材料中的光学异构性. 这种技术使用近场光相互作用来准确确定属性,即使是原子层样本.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学是什么?光学是什么?光学是什么?
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 对平面内光学异性质的定量确定对于发现和设计异性质低维材料至关重要.
- 现有的方法通常依赖于远场光相互作用,导致信号噪声比较低,并且由于相互作用距离短,薄或原子层样本的不准确性.
研究的目的:
- 提出和验证一种用于在低维材料中定量确定平面内光学异性质的新方法.
- 克服现有技术的局限性,特别是对于超薄样品.
主要方法:
- 阿齐穆斯扫描激发表面等离子体共振全息显微镜 (AS-ESPRHM).
- 使用近场光物质相互作用与表面等离子体波.
- 通过检测反射相位变化,通过在平面内方向上定量检索复杂的折射率.
主要成果:
- 拟议的方法准确地确定平面内光学异构性,包括双折和二重性.
- 它适用于任何厚度的样品,包括原子层,因为它依赖近场相互作用.
- 在ReS2样本上演示,显示异性质量大小随着厚度的减少而增加.
结论:
- AS-ESPRHM提供了一种精确而通用的方法,用于在薄膜中量化平面内光学异构性.
- 这种技术对于识别新的异性质材料和设计先进的极化纳米设备非常有价值.
