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Davide Raffaele Ceratti1, Gary Hodes2, David Cahen2
1CNRS, UMR 8247, IRCP, Institut de Recherche de Chimie Paris, Paris, France.
本综述批判性地检查了基化 (HaPs) 的自我愈合 (SH),探讨了这些材料如何从光,热和压力所造成的损伤中恢复. 了解SH机制是改善各种应用中HAP稳定的关键.
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