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通过脉冲激光沉积合成新型薄膜材料
1D. H. Lowndes, D. B. Geohegan, D. P. Norton, and C. M. Rouleau are in the Solid State Division, Oak Ridge National Laboratory, Post Office Box 2008, Oak Ridge, TN 37831-6056, USA. A. A. Puretzky is at the Institute of Spectroscopy, Russian Academy of Sciences, Troitsk, Russia.
Science (New York, N.Y.)
|August 16, 1996
概括
脉冲激光沉积 (PLD) 是复杂材料的多功能薄膜技术. 它可以通过精确的层控制来实现静电转移和创建具有可调节性质的新型材料.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 薄膜沉积方法 薄膜沉积方法
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 脉冲激光沉积 (PLD) 是用于薄膜和多层研究的广泛使用的技术.
- 它的优点包括静电转移,能量束沉积,以及适用于氧化物等复杂材料的适用性.
- PLD为创建多层结构提供了固有的简单性.
研究的目的:
- 突出脉冲激光沉积 (PLD) 对于先进材料合成的多功能性和优势.
- 探索PLD在创造人工材料和超稳定相方面的能力.
- 展示现场监测在了解薄膜形成和特性方面的作用.
主要方法:
- 使用脉冲激光沉积 (PLD) 进行薄膜和多层生长.
- 采用现场监测技术,分析沉积过程中的活力物种.
- 控制层厚度,以设计材料性能.
主要成果:
- 成功地创建了具有可调节性质的人工分层材料和超稳定相.
- 证明了复杂氧化物的固体测量转移和反应沉积.
- 获得了对能量物种在形成超硬相和兴奋剂半导体中的作用的见解.
- 探索了集群组装的纳米晶体和复合膜的潜力.
结论:
- 脉冲激光沉积 (PLD) 是一种强大而可适应的方法,用于合成先进的薄膜和复杂材料.
- PLD促进了新型材料结构的受控制造,包括多层和纳米晶体薄膜.
- 该技术为开发具有适合各种应用的特性的材料提供了巨大的潜力.