概括
开发了一种新的严格的模拟模型,用于双Ronchi剪切干扰测量. 这种准确的模型考虑了光.
科学领域:
- 光学计量学 在光学计量学
- 石版画系统 石版画系统
背景情况:
- 双朗奇剪切干扰测量对于在先进的光刻投影镜头中进行波面偏差测量至关重要.
- 准确的模拟模型对于设计相位移检索算法和在石版画中执行错误分析至关重要.
研究的目的:
- 提出一个严格的模拟模型,用于双Ronchi剪切干涉测量.
- 为了在模拟中考虑光的向量性质.
主要方法:
- 开发一个严格的模拟模型,用于双Ronchi剪切干扰测量.
- 将光的向量性质纳入模拟中.
主要成果:
- 一个严格的模拟模型用于双Ronchi剪切干扰测量已经成功开发.
- 该模型准确地代表了干涉测量过程,考虑到光的向量性质.
结论:
- 提出的严格模拟模型是准确的,适合研究双Ronchi剪切干扰.
- 这种模型是 lithography 工具计量学和错误分析进步的关键基础.
