使用三种不同的微型制造技术开发的W波段交互结构的优化
Sahil Jain1,2, Vishant1, Maninder Kaur1
1(CSIR)-Central Electronics Engineering Research Institute (CEERI), Pilani 333031, India.
The Review of scientific instruments
|October 1, 2024
概括
这项研究优化了W频段结构的微型制造,使用微电放电削 (EDM) 和微型削. 目标是为先进的光束波相互作用设备实现精确的尺寸和光滑的表面.
科学领域:
- 电气工程 电气工程
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 物理 物理学 物理
背景情况:
- W频段 (75110 GHz) 设备需要精确的微结构,以实现高效的光束波相互作用.
- 微型制造技术对于开发这些复杂结构至关重要.
- 优化制造工艺对于实现所需的性能特征至关重要.
研究的目的:
- 实验性地研究和优化W波段平面束波相互作用结构的三种微制造技术.
- 为了比较微电放电削 (EDM),电线EDM和微削用于制造这些结构的有效性.
- 确定最优的工艺参数,以尽量减少尺寸偏差和表面粗度.
主要方法:
- 使用微EDM,电线EDM和微研磨的W频平面光束波相互作用结构的开发.
- 使用扫描电子显微镜 (SEM) 和ZETA 3D光学显微镜分析制造结构.
- 制造工艺的实验优化,以实现目标尺寸精度和表面表面.
主要成果:
- 通过使用研究的方法成功制造W波段平面束波相互作用结构.
- 对每个微型制造技术的尺寸偏差和表面粗性的定量分析.
- 识别过程参数,从而优化结构质量.
结论:
- 这项研究成功地优化了微型制造技术,用于W波段平面束波相互作用结构.
- 达到10μm以下的尺寸偏差和50nm以下的表面粗度.
- 这些发现为高性能W频段设备的高效开发提供了基础.
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