边界陷增强的Ga2O3 非挥发性光电子记忆

Yonghui Zhang1,2, Rui Zhu2,3, Wenxing Huo4

  • 1School of Physics and Optoelectronic Engineering, Shandong University of Technology, 255000 Zibo, Shandong P. R. China.

Nano letters
|October 30, 2024
PubMed
概括

这项研究引入了一种使用β-Ga2O3/SiO2/Si.的新型深紫外光电子记忆. 它通过利用漏洞捕获的缺陷来实现超过10年的数据保留,增强非易失性存储能力.