边界陷增强的Ga2O3 非挥发性光电子记忆
Yonghui Zhang1,2, Rui Zhu2,3, Wenxing Huo4
1School of Physics and Optoelectronic Engineering, Shandong University of Technology, 255000 Zibo, Shandong P. R. China.
Nano letters
|October 30, 2024
概括
这项研究引入了一种使用β-Ga2O3/SiO2/Si.的新型深紫外光电子记忆. 它通过利用漏洞捕获的缺陷来实现超过10年的数据保留,增强非易失性存储能力.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 半导体物理 半导体物理
- 光电学是指光电子产品.
背景情况:
- 非挥发性深紫外光电子存储器 (DUVOEM) 对于网络物理系统至关重要,因为它具有高存储密度,速度和安全性.
- 目前的DUVOEM技术存在数据保留的局限性,通常以毫秒或小时来衡量,不足以达到所需的多年非挥发性.
研究的目的:
- 开发一个具有显著增强和长期数据保留能力的DUVOEM.
- 探索在β-Ga2O3中缺陷工程的使用,以提高非易失性记忆性能.
主要方法:
- 一个β-Ga2O3/SiO2/Si薄膜晶体管结构的制造.
- 利用β-Ga2O3中的光生成孔穿过SiO2并被困在边界缺陷中.
- 利用被困洞的缓慢释放来实现长期数据存储.
主要成果:
- 证明了一个DUVOEM,数据保留时间超过10年.
- 实现了快速的写入和删除速度.
- 展现出高强度,表明实际应用潜力.
结论:
- 开发的β-Ga2O3/SiO2/Si DUVOEM为实现长期非挥发性光电子记忆提供了一个新的策略.
- 具有常见技术缺陷的β-Ga2O3的功能化是高级内存应用的可行方法.


