MOS Capacitor
MOSFET: Enhancement Mode
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Dong Hwan Kim1, Jinyoung Seo2, Yoonbeen Kang2
1Graduate Program of Semiconductor Science and Engineering, Yonsei University, Seoul 03722, Republic of Korea. syju@yonsei.ac.kr.
研究人员开发了一个pH优化的缓冲器,用于通过化学蒸气沉积 (CVD) 连续,大面积的二硫化物 (MoS2) 增长. 这种方法确保了统一的前体吸附和核化,用于可扩展的二维材料制造.
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