CNN,使LIME.

Jieun Lee1, Yeonwoo Ju1, Junho Lim1

  • 1Department of System Semiconductor Engineering, Sangmyung University, Cheonan 31066, Republic of Korea.

Micromachines
|September 27, 2025
PubMed
概括

本研究介绍了一种先进的晶圆缺陷分类模型,可以提高半导体制造中的准确性,信心和可解释性. 该模型实现了高精度,同时为智能质量管理提供了可解释的预测.

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