通过对焦控制来提高覆盖精度的一种方法
Yanping Lan1, Jingchao Qi1, Mengxi Gui2
1Shanghai Yuwei Semiconductor Technology Co., Ltd., Shanghai 201203, China.
Micromachines
|February 27, 2026
概括
本研究引入了一种使用双波长光学和深度学习进行精确半导体覆盖测量的综合方法. 该方法在先进的工艺节点中提高了准确性和效率.
科学领域:
- 半导体制造业 半导体制造业
- 光学计量学 在光学计量学
- 图像处理 图像处理
背景情况:
- 覆盖测量精度对于半导体制造至关重要.
- 焦平面检测显著影响覆盖精度和测量吞吐量.
- 先进的过程节点需要提高准确性和效率.
研究的目的:
- 开发一个综合优化策略,用于覆盖测量.
- 在先进的工艺节点中解决准确性和效率之间的权衡.
- 为了提高覆盖测量的精度和效率.
主要方法:
- 实现了双波长,双探测器光学硬件架构.
- 为不同的层选择独立的最佳成像波长.
- 采用深度学习框架进行实时对准和失焦预测.
- 利用协同的硬件和软件策略,以实现最佳的成像姿势.
主要成果:
- 在没有干扰的情况下为每个层实现理想的成像条件.
- 可同时预测和调整水平位置和失焦.
- 有效地减轻了背景噪音和系统偏差.
- 显著提高了覆盖测量的精度和效率.
结论:
- 综合优化策略提高了覆盖测量性能.
- 双波长光学和深度学习协同实现卓越的结果.
- 这种方法对于满足先进半导体工艺节点的需求至关重要.
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