Monomeric malonate precursors for the MOCVD of HfO2 and ZrO2 thin films

Ramasamy Pothiraja1, Andrian Milanov, Harish Parala

  • 1Inorganic Materials Chemistry Lehrstuhl für Anorganische Chemie II, Universitätsstr. 150, Ruhr-Universität Bochums D-44780 Bocaum, Germany.