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Peliculas delgadas nanoporosas libres de defectos de copolímeros de bloqueo triplo ABC

Joona Bang1, Seung Hyun Kim, Eric Drockenmuller

  • 1Department of Chemical and Biological Engineering, Korea University, Seoul 136-713, Republic of Korea.

Resumen

Los copolímeros de Triblock se autoensamblan en matrices nanoporosas ordenadas. El uso de un bloque medio fotodegradable (PMMA) crea películas finas altamente regulares y libres de defectos para la litografía avanzada.

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