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    PubMed
    概括
    此摘要是机器生成的。

    一个新的基于学习的模型精确地模拟了在部分连贯照明 (PCI) 下的厚面罩衍射近场 (DNF) 沉浸光刻. 这大大加快了用于先进半导体制造的空中图像计算.

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    科学领域:

    • 半导体制造业 半导体制造业
    • 计算电磁学 计算机电磁学
    • 光学石版印刷是一种光学石版印刷.

    背景情况:

    • 沉浸式光刻法中精确的空中图像计算需要模拟厚面罩衍射近场 (DNF).
    • 部分连贯照明 (PCI) 对于增强实用光刻工具的图案真实性至关重要.
    • 在PCI下对DNFs的现有模拟方法可能是计算密集的.

    研究的目的:

    • 扩展以前开发的基于学习的厚面具模型,以处理部分连贯照明 (PCI).
    • 为了在PCI下准确和高效地模拟DNF,用于沉浸式光刻应用.
    • 为了验证模型的准确性和各种关键维度 (CD) 的计算性能.

    主要方法:

    • 使用严格的电磁场 (EMF) 模拟器在斜照明下建立了DNF的训练库.
    • 从连贯到部分连贯的照明条件扩展了一个基于学习的厚面具模型.
    • 对具有不同关键维度 (CD) 的面具图案分析了模拟准确性.

    主要成果:

    • 提出的基于学习的模型在PCI下实现了高精度的DNF模拟.
    • 该模型证明适用于14nm或更大的技术节点.
    • 与EMF模拟器相比,计算效率提高了多达两个数量级.

    结论:

    • 基于扩展学习的厚面具模型提供了准确和高效的DNF模拟PCI沉浸式光刻.
    • 这一进步支持14nm节点及以上半导体制造工艺的开发和优化.
    • 该模型比传统的严格的电磁场模拟提供了显著的加快速度.